■适用于中、小激光功率;
■通过对粉末流的精确校准实现较高的过程可重复性;
■光学系统设有防污保护。
同轴激光熔覆头RC30,适用于精细激光熔覆,如金属3D打印,曲面熔覆。适用功率范围500W-2000W。
同轴激光熔覆头RC52,适用于大送粉量,高效率的激光熔覆工艺。适用功率范围5000W-6000W。
半导体激光器用宽带激光熔覆头RC65,适用于大面积轴件的激光熔敷工艺,在功率为6KW时,可实现单道熔敷宽度20mm,熔敷厚度2mm。
■ 适用于所有高辐射质量的固体激光;
■ 适用于中、小激光功率;
■ 通过对粉末流的精确校准实现较高的过程可重复性;
■ 光学系统设有防污保护。
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